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W-600是專為清洗晶圓研磨切割后的硅粉殘留以及PAD氧化而設(shè)計(jì)的高效清洗劑。
W-600水基清洗劑具有以下優(yōu)勢(shì):
1. 性價(jià)比高:W-600以出色的清洗效果和合理的價(jià)格,為客戶提供高性價(jià)比的清洗解決方案。
2. 清洗效果好:采用先進(jìn)的配方和工藝,W-600能夠輕松有效地清洗晶圓上的臟污以及PAD氧化物質(zhì),確保清洗效果徹底。
3. 無(wú)泡沫配方:W-600具有優(yōu)異的去泡性能,在清洗過(guò)程中沒(méi)有泡沫的產(chǎn)生,提高清洗效率。
產(chǎn)品特點(diǎn):
1. 水基配方:W-600采用純水為基礎(chǔ),不含任何有害物質(zhì),對(duì)環(huán)境友好,對(duì)人體無(wú)害。
2. 中性水基配方:W-600對(duì)晶圓具有良好的兼容性,不會(huì)對(duì)晶圓產(chǎn)生任何腐蝕。
產(chǎn)品應(yīng)用場(chǎng)景:
W-600適用于去除單晶硅、多晶硅、硅片等在生產(chǎn)工藝切割、研磨、倒角過(guò)程中污染塵埃、粉塵、手指印、油污、氧化物、離子污染物等。本產(chǎn)品滲透速度快、潤(rùn)濕性能好,能快速的包裹住研磨的磨料顆粒,對(duì)于小的縫隙也有很好的清洗能力。配方溫和,有比較好的材料兼容性,對(duì)于晶圓的各層鍍膜有保護(hù)功能。采用無(wú)泡配方,容易漂洗,不殘留。
物理性質(zhì)與操作工藝:
型號(hào) | 沸點(diǎn)(℃) | pH值 | 使用方法 | 使用配比 | 清洗溫度 | 清洗時(shí)間(離線) | 噴淋清洗鏈速(在線) | 使用壽命 |
W-600 | >100 | 7.0~8.0 | 噴淋清洗 | 1:10~1:15 | 常溫~40℃ | 8min~15min | 0.3M/min~0.7M/min | 一個(gè)月 |
如您沒(méi)有找到有關(guān)產(chǎn)品的應(yīng)用案例,可以通過(guò)網(wǎng)頁(yè)底部二維碼,掃一掃關(guān)注我們的抖音企業(yè)號(hào),查看更多案例分享哦!
W-600是專為清洗晶圓研磨切割后的硅粉殘留以及PAD氧化而設(shè)計(jì)的高效清洗劑。
W-600水基清洗劑具有以下優(yōu)勢(shì):
1. 性價(jià)比高:W-600以出色的清洗效果和合理的價(jià)格,為客戶提供高性價(jià)比的清洗解決方案。
2. 清洗效果好:采用先進(jìn)的配方和工藝,W-600能夠輕松有效地清洗晶圓上的臟污以及PAD氧化物質(zhì),確保清洗效果徹底。
3. 無(wú)泡沫配方:W-600具有優(yōu)異的去泡性能,在清洗過(guò)程中沒(méi)有泡沫的產(chǎn)生,提高清洗效率。
產(chǎn)品特點(diǎn):
1. 水基配方:W-600采用純水為基礎(chǔ),不含任何有害物質(zhì),對(duì)環(huán)境友好,對(duì)人體無(wú)害。
2. 中性水基配方:W-600對(duì)晶圓具有良好的兼容性,不會(huì)對(duì)晶圓產(chǎn)生任何腐蝕。
產(chǎn)品應(yīng)用場(chǎng)景:
W-600適用于去除單晶硅、多晶硅、硅片等在生產(chǎn)工藝切割、研磨、倒角過(guò)程中污染塵埃、粉塵、手指印、油污、氧化物、離子污染物等。本產(chǎn)品滲透速度快、潤(rùn)濕性能好,能快速的包裹住研磨的磨料顆粒,對(duì)于小的縫隙也有很好的清洗能力。配方溫和,有比較好的材料兼容性,對(duì)于晶圓的各層鍍膜有保護(hù)功能。采用無(wú)泡配方,容易漂洗,不殘留。
物理性質(zhì)與操作工藝:
型號(hào) | 沸點(diǎn)(℃) | pH值 | 使用方法 | 使用配比 | 清洗溫度 | 清洗時(shí)間(離線) | 噴淋清洗鏈速(在線) | 使用壽命 |
W-600 | >100 | 7.0~8.0 | 噴淋清洗 | 1:10~1:15 | 常溫~40℃ | 8min~15min | 0.3M/min~0.7M/min | 一個(gè)月 |
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